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等离子体化学气相沉积系统

Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)

型号规格 沈阳新蓝天PECVD350

仪器联系人 陈王华

存放地点 龙赛理科楼北楼F007

应用范围 利用等离子体来促进化学气相沉积（CVD）过程的薄膜沉积技术。PECVD技术在低气压下进行，利用射频（RF）电场激发反应气体，使其发生电离和激发，产生活性粒子和自由基，这些活性粒子和自由基与基材表面发生反应，形成薄膜。