反应离子刻蚀机
发布时间: 2025-03-03 10:39
反应离子刻蚀机 Reactive Ion Etching (RIE)
型号规格 德国SENTECH S1591
仪器联系人 陈王华
存放地点 龙赛理科楼北楼404
应用范围 有机物、半导体和金属材料的刻蚀。最大可加工基片尺寸200 mm。刻蚀机可设定刻蚀程序，实现刻蚀过程自动控制。
反应离子刻蚀机 Reactive Ion Etching (RIE)
型号规格 德国SENTECH S1591
仪器联系人 陈王华
存放地点 龙赛理科楼北楼404
应用范围 有机物、半导体和金属材料的刻蚀。最大可加工基片尺寸200 mm。刻蚀机可设定刻蚀程序，实现刻蚀过程自动控制。