博彩导航

高真空多功能磁控溅射镀膜设备

High Vacuum Multifunctional Magnetron Sputtering Coating Equipment

型号规格 沈阳腾鳌/TA13-XD

仪器负责人 王旭

存放地点 龙赛理科楼北楼106

应用范围 制备金属、半导体、绝缘体等多材料。极限真空度≤5.0x10^-4 Pa，设备采用直流电源，可镀金膜，磁控靶直流射频兼容。