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原子层沉积系统 Atomic Layer Deposition System (ALD)

型号规格 Ultratech/Savannah 200

仪器联系人 王旭

存放地点 龙赛理科楼北楼402

应用范围 用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜；具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD；具备近100种膜层工艺。